关于苹果公司而言，完成iPhone真全面屏形状的最大技能难点无疑是屏下Face ID。由于Face ID体系依赖于深感摄像头投射并剖析很多的点来捕获精确的人脸数据，其间的红外摄像头、点阵投影器等要害组件在当时技能条件下难以彻底躲藏到屏幕下方。因而，苹果现在只能选用退让的药丸屏计划来处理这一问题。但是，近来有新闻媒体报道称，苹果现已获得了一项关于屏下Face ID的专利，该专利有望处理屏下摄像头的技能难题，为iPhone完成真全面屏形状铺平道路。

  据了解，屏下Face ID面对的最要紧的费事是进步红外光的透光率。尽管红外光可以穿过显现屏，但其透射率较差，假如强行将其置于面板下方，人脸辨认进程将会变得缓慢，且安全可靠性也会下降。但是，苹果的最新专利显现，他们经过删去一些子像素的方法，成功让红外光可以穿过盖板，完成屏下人脸辨认。

  具体来说，苹果的计划是移除相同色彩的相邻子像素，以此来让红外光可以成功穿过OLED面板。由于每个像素都由红色子像素、绿色子像素和蓝色子像素组成，而屏幕上的色彩正是由这三种不一样的色彩的子像素叠加、混合出现出来的。因而，苹果经过移除部分子像从来让红外光经过，一起借用相邻的子像素经过色彩混合来补偿缺失的子像素，来确保全体显现作用的一致性。

  值得注意的是，这一计划并不会被用户肉眼发觉，由于缺失的子像素会被相邻的子像素所补偿，然后坚持屏幕显现作用的完整性。据新闻媒体报道，这一屏下Face ID技能最快将在2026年的iPhone 18系列上得到使用。到时，iPhone 18系列将离别现有的药丸屏形状，以单挖孔屏的形状出现，完成真实的全面屏规划。

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